聚焦離子束場發射掃描電鏡

儀器名稱

聚焦離子束場發射掃描電鏡



儀器廠商和型號

Zeiss Auriga

儀器設備性能參數

SEM 分辨率Resolution: 1.0nm @ 15kV 1.9nm @ 1kV

放大倍數Mag.:12 ~ 1000,000x

加速電壓EHT:0.1 ~ 30kV

FIB 分辨率Resolution:2.5nm @ 30kV

放大倍數Mag.:300×~ 500,000×

加速電壓EHT:1.0 ~ 30Kv

儀器設備功能用途

聚焦離子束場發射掃描雙束電鏡(FIB)是國際上納米結構分析和材料微納結構制備的先進設備。它配有電子束和Ga離子束,可以實現電子束與離子束的同時在線觀測,具有束流穩定、分辨率高、納米操控精確的特點,可以在納米尺度的分辨率下對材料進行三維、高質量、高穩定性的顯微形貌、晶體結構和相組織的觀察與分析,及各種材料微區化學成分的定性和定量檢測。

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